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净化领域
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半导体组件空间单位都是以微米计算，因此微尘颗粒沾附在制作半导体组件的晶圆上，便有可能影响到其上精密导线布局的样式，造成短路或断路的严重后果。所有半导体制程设备都必须安置在隔绝粉尘进入的密闭空间中，这就是半导体车间净化的来由。
净化原理
在净化工程中，含有杂质的液化气体通过第一吸收装置以去除其液相中的杂质，从而产生初次净化流体；使这初次净化流体通过蒸发装置以去除其中的杂质，从而产生二次净化气体；和使二次净化气体通过第二吸收装置以去除其汽相中的杂质，从而达到净化效果。
技术要求及功能特点
技术要求：
对生产环境清洁度要求极高；
选择不易产生静电吸附的材质为主；
恒温恒湿的系统要求使用；
所用的原材料需要符合工艺要求；
功能特点：
清洁度：半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。
特殊性：所有人或事情进出半导体，必须穿配套防尘服，人或事物都要经过风淋室的吹淋已将表面的灰尘清洗掉；
防静电：在材质选择方面，应该选择不易产生静电吸附的材质;
严谨性：所有经净化设备的空气流动方向均由上往下为主，因此，半导体室内空间设计或机台摆放应避免突兀，使尘埃细菌等在洁净无尘车间内回旋停滞的机会与时间减至低程度。
应用场景
半导体车间净化装修现在已经广泛运用于制药工业、细菌学、生物学、洁净实验室等行业中，随着半导体净化装修日益地朝着高集成度发展,这就要求各元件尺寸愈来愈微细，而硅片的面积向大型化方向发展，在一定程度上促进的我国生物工程的发展。
净化原理
在净化工程中，含有杂质的液化气体通过第一吸收装置以去除其液相中的杂质，从而产生初次净化流体；使这初次净化流体通过蒸发装置以去除其中的杂质，从而产生二次净化气体；和使二次净化气体通过第二吸收装置以去除其汽相中的杂质，从而达到净化效果。
技术要求及功能特点
技术要求：
对生产环境清洁度要求极高；
选择不易产生静电吸附的材质为主；
恒温恒湿的系统要求使用；
所用的原材料需要符合工艺要求；
功能特点：
清洁度：半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。
特殊性：所有人或事情进出半导体，必须穿配套防尘服，人或事物都要经过风淋室的吹淋已将表面的灰尘清洗掉；
防静电：在材质选择方面，应该选择不易产生静电吸附的材质;
严谨性：所有经净化设备的空气流动方向均由上往下为主，因此，半导体室内空间设计或机台摆放应避免突兀，使尘埃细菌等在洁净无尘车间内回旋停滞的机会与时间减至低程度。
应用场景
半导体车间净化装修现在已经广泛运用于制药工业、细菌学、生物学、洁净实验室等行业中，随着半导体净化装修日益地朝着高集成度发展,这就要求各元件尺寸愈来愈微细，而硅片的面积向大型化方向发展，在一定程度上促进的我国生物工程的发展。
